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RST3060電化學(xué)工作站與RST3100電化學(xué)工作站的硬件指標(biāo)相同,采用相同的運(yùn)行軟件,硬件型號(hào)由軟件自動(dòng)識(shí)別。
◆應(yīng)用領(lǐng)域
電化學(xué)教學(xué)、電化學(xué)分析、電化學(xué)合成、痕量元素檢測(cè)、電鍍工藝開發(fā)、電池材料研究、環(huán)境保護(hù)監(jiān)測(cè)、納米材料研制、電解、冶金、制藥、生物電化學(xué)傳感器、電化學(xué)腐蝕研究測(cè)量、超級(jí)電容特性測(cè)試分析、電池化成及特性測(cè)試分析。
◆電化學(xué)方法
線性掃描伏安法、線性掃描溶出伏安法、線性掃描循環(huán)伏安法、階梯伏安法、階梯溶出伏安法、階梯循環(huán)伏安法、方波伏安法、方波溶出伏安法、方波循環(huán)伏安法、差示脈沖伏安法、差示脈沖溶出伏安法、常規(guī)脈沖伏安法、差示常規(guī)脈沖伏安法、單電位階躍計(jì)時(shí)電流法、單電位階躍計(jì)時(shí)電量法、多電位階躍計(jì)時(shí)電流法、多電位階躍計(jì)時(shí)電量法、恒電位電解I-t曲線、恒電位電解Q-t曲線、恒電位溶出I-t曲線、恒電位溶出Q-t曲線。
◆主要技術(shù)指標(biāo)
電位掃描范圍 ±12.8V
電位分辯率 0.1mV
zei大恒電流 ±250mA
溫度穩(wěn)定性 <10uV/℃
輸入阻抗//電容 >1013Ω// <10pF
CV和LSV掃描速率 0.001~10000mV/s
D/A分辨率 16bit
A/D分辨率 24bit
電位激勵(lì)及測(cè)量精度 0.2%
電流激勵(lì)及測(cè)量精度 0.2%
電流測(cè)量量程 ±100nA~±250mA共14檔
儀器重量 <3kg
儀器尺寸 360×300×14(立方厘米)
◆ RST系列電化學(xué)工作站選型表
電化學(xué)方法 | 3020 | 3060 | 3100 | 4600 | 5000 | 5100 | 5200 | |
1 | 線性掃描伏安法LSV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
2 | 線性掃描溶出伏安法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
3 | 線性掃描循環(huán)伏安法LCV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
4 | 環(huán)形掃描 | ● | ● | ● | ||||
5 | 階梯伏安法SV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
6 | 階梯溶出伏安法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
7 | 階梯循環(huán)伏安法SCV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
8 | 方波伏安法SWV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
9 | 方波溶出伏安法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
10 | 方波循環(huán)伏安法SWCV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
11 | 差示脈沖伏安法DPV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
12 | 差示脈沖溶出伏安法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
13 | 常規(guī)脈沖伏安法NPV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
14 | 差示常規(guī)脈沖伏安法DNPV | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
15 | 單電位階躍計(jì)時(shí)電流法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
16 | 單電位階躍計(jì)時(shí)電量法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
17 | 多電位階躍計(jì)時(shí)電流法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
18 | 多電位階躍計(jì)時(shí)電量法 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
19 | 恒電位電解I-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
20 | 恒電位電解Q-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
21 | 恒電位溶出I-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
22 | 恒電位溶出Q-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
23 | 開路電位E-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
24 | 電位溶出E-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
25 | 單電流階躍計(jì)時(shí)電位法 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
26 | 多電流階躍計(jì)時(shí)電位法 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
27 | 控制電流E-T曲線 | ● | ● | ● | ● | ● | ||
28 | 交流伏安法 | ● | ● | ● | ||||
29 | 交流溶出伏安法 | ● | ● | ● | ||||
30 | 交流循環(huán)伏安法 | ● | ● | ● | ||||
31 | 塔菲爾圖Tafel | ● | ● | ● | ● | ● | ||
32 | 交流阻抗譜 | ● | ● | ● | ||||
33 | 電池恒流充電 | ● | ● | ● | ||||
34 | 電池恒流放電 | ● | ● | ● | ||||
35 | 電池恒流循環(huán)充放電 | ● | ● | |||||
36 | 電池全容量分段充電 | ● | ● | |||||
37 | 電池全容量分段放電 | ● | ● | |||||
38 | 脈沖電鍍法 | ● | ● | |||||
39 | 電鍍電位監(jiān)測(cè) | ● | ● | |||||
40 | 氯離子濃度監(jiān)測(cè) | ● | ||||||
41 | 宏電池電流監(jiān)測(cè) | ● | ● | |||||
42 | 半電池恒流陽(yáng)極極化 | ● | ||||||
43 | 半電池恒流陰極極化 | ● | ||||||
44 | 半電池恒流循環(huán)極化 | ● | ||||||
45 | 微分電容-電位 | ● | ● | |||||
46 | 交流阻抗-電位 | ● | ● | |||||
47 | 交流阻抗-時(shí)間 | ● | &nb
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