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主要特點(diǎn):
完全集成的 TESCAN Essence? EDS 分析平臺,在 Essence? 電鏡操控軟件的單一窗口中即可實(shí)現(xiàn) SEM 成像和元素成分分析。
TESCAN 采用獨(dú)特的無機(jī)械光闌設(shè)計(jì),采用實(shí)時(shí)電子束追蹤(In Flight Beam Tracing?)的ZG技術(shù),可幫助用戶快速獲得電鏡合適的成像及分析條件。
獨(dú)特的大視野光路(Wide Field Optics?)設(shè)計(jì),ZD至2倍的放大倍數(shù),無需額外的光學(xué)導(dǎo)航攝像頭即可輕松、精確地實(shí)現(xiàn) SEM 導(dǎo)航。
直觀、模塊化的 Essence? 軟件設(shè)計(jì),不同經(jīng)驗(yàn)等級的用戶均可輕松操作。
在樣品臺及裝置的樣品運(yùn)動過程中,Essence? 3D 防碰撞模塊可以直觀的顯示安裝樣品室內(nèi)的探測器及樣品臺的位置信息,提供安全性的保護(hù)。
SingleVac? 模式作為標(biāo)準(zhǔn)配置,為觀測不導(dǎo)電樣品和電子束敏感的樣品提供便利的分析利器。
可選配的真空緩沖節(jié)能單元可顯著縮短機(jī)械泵的運(yùn)行時(shí)間,提供環(huán)保、高經(jīng)濟(jì)效益的電子顯微鏡。
模塊化分析平臺,可選配集成最多種類的探測器和附件(如陰極熒光探測器,水冷背散射電子探測器或拉曼光譜儀等)。
大視野設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)低倍精確導(dǎo)航
利用大視野光路(Wide Field Optics?)技術(shù),用戶可通過掃描窗口實(shí)時(shí)觀察樣品,直接實(shí)現(xiàn)感興趣位置的精確導(dǎo)航。大視野光路技術(shù)取代了傳統(tǒng)的CCD導(dǎo)航相機(jī),提供無與倫比的大景深,同時(shí)也提供樣品實(shí)際形貌的圖像,實(shí)現(xiàn)更直觀、先進(jìn)的樣品導(dǎo)航過程。在 SEM 觀測窗口中,最小2倍的放大倍率保證了大視野無畸變的圖像實(shí)時(shí)觀測,可連續(xù)放大感興趣的區(qū)域,無需光學(xué)導(dǎo)航相機(jī)。實(shí)時(shí)的SEM窗口同樣可與預(yù)傾斜樣品臺(如 EBSD 預(yù)傾臺)配合使用,對于需要傾斜分析的樣品,支持掃描傾斜校正,從而實(shí)現(xiàn)更精確的導(dǎo)航。
自動操作
通過一次點(diǎn)擊就可以進(jìn)行自動燈絲加熱和電子槍對中。眾多的自動程序減少了用戶的操作時(shí)間,并提供了操作的自動導(dǎo)航與自動化分析。通過內(nèi)置腳本語言(Python)用戶可以進(jìn)入軟件大多數(shù)功能,包括電鏡控制、樣品臺導(dǎo)航、圖像采集、處理與分析。通過腳本語言用戶也可以自定義軟件的自動操作。
全新的 EssenceTM 電鏡控制軟件
用戶界面有各種語言版本。
集成的 Essence? EDS 能譜軟件,輕松快捷地實(shí)現(xiàn)從成像切換到元素分析,通過軟件一鍵即可實(shí)現(xiàn)所有設(shè)置參數(shù)的更改。
具備快速搜索功能、命令撤消及參數(shù)預(yù)設(shè)等多種功能,幫助用戶高效、快捷地完成分析工作。
允許用戶設(shè)定符合其自身體驗(yàn)水平或特定應(yīng)用的工作流程。
Essence? 防碰撞模型軟件能夠直觀的模擬出樣品室內(nèi)情況,有效避免碰撞的發(fā)生。
內(nèi)置的自動系統(tǒng)檢查。
通過局域網(wǎng)或互聯(lián)網(wǎng)可實(shí)現(xiàn)電鏡遠(yuǎn)程診斷。
模塊化軟件體系結(jié)構(gòu)。
標(biāo)準(zhǔn)的軟件模塊包括了:光電聯(lián)用、測量工具、圖像處理、對象區(qū)域等。
選配軟件包括了:顆粒度分析、三維表面重構(gòu)等。
設(shè)備參數(shù):
電子槍 | 加熱鎢燈絲陰極 | |
電子光學(xué)部件 | 中間透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsTM Technology with Intermediate LensTM )和實(shí)時(shí)電子束追蹤(In-Flight Beam TracingTM ) | |
分辨率 | 高真空模式: 3 nm@30 keV 8 nm@3 keV | 低真空模式: 3.5 nm@30 keV(BSE探測器*) 3.5 nm@30 keV(LVSTD探測器*) *選裝探測器 |
最大視野 | 位于最大工作距離時(shí)>50 mm | |
艙室 | LM、GM | |
標(biāo)配 | EssenceTM軟件、基礎(chǔ)款標(biāo)配低真空模式 | |
選配 | UniVac模式,氣壓范圍(7-500Pa);EssenceTM EDS;Vacuum Buffer;其他可選的探測器。 |