/ / 儀器簡(jiǎn)介：

該儀器包含一個(gè)底座和支架裝置，安裝在一個(gè)淺水浴槽上。整個(gè)儀器可旋轉(zhuǎn)，因而每個(gè)樣品可從儀器正面獲取。圓燒瓶坐于一個(gè)覆蓋盤上并由熱水和蒸汽加熱?？商幚矸悬c(diǎn)高達(dá)65° C的溶劑。為了zei大化傳熱面積，廣口燒瓶可直接浸沒在水浴中?？商幚矸悬c(diǎn)高達(dá)90° C 的溶劑的真空歧管為可選附件。

一、S-EVAP-RB平行溶劑蒸發(fā)儀——用于樣品的提純
        該儀器包含一個(gè)底座和支架裝置，安裝在一個(gè)淺水浴槽上。整個(gè)儀器可旋轉(zhuǎn)，因而每個(gè)樣品可從儀器正面獲取。圓燒瓶坐于一個(gè)覆蓋盤上并由熱水和蒸汽加熱。可處理沸點(diǎn)高達(dá)65° C的溶劑。為了zei大化傳熱面積，廣口燒瓶可直接浸沒在水浴中。可處理沸點(diǎn)高達(dá)90° C 的溶劑的真空歧管為可選附件。
        冷凝器水供應(yīng)裝置包含一個(gè)流量計(jì)，供應(yīng)管，旋轉(zhuǎn)入/排水口，平行的供應(yīng)/回收歧管和一個(gè)回收管?？焖贁嚅_裝置用在歧管上。設(shè)備可與冷水龍頭連接。推薦將水冷卻裝置作為附件，以加強(qiáng)控制冷凝器溫度和操持水的溫度。
4.5英寸深的有溫控裝置的不銹鋼水浴在30°-70° C范圍內(nèi)可精確保持恒定水溫。水浴裝有一個(gè)水準(zhǔn)器一個(gè)高溫限制開關(guān)和一個(gè)GFCI（漏電保護(hù)插頭）插頭。還有可選附件：一個(gè)本質(zhì)安全型凈化箱。水浴為UL/CUL認(rèn)證，適合實(shí)驗(yàn)室使用。

S-EVAP-RB特點(diǎn):
1. 3種型號(hào)可選：分別為5, 8和10孔位的儀器，燒瓶為250 ml和500 ml兩種規(guī)格。
2. 儀器結(jié)構(gòu)緊湊，占用面積小。
3. 使用氟利昂和其他認(rèn)可的溶劑可用于油和油脂分析。
4. 從Soxhlet索氏提取操作中濃縮提取物質(zhì)。Concentrates extracted materials from Soxhlet operations.
5. 回收97%的初始溶劑量。
6. 可選擇真空歧管處理沸點(diǎn)高達(dá)90°C 的溶劑。

二、S-EVAP-KD平行溶劑蒸發(fā)儀——用于樣品的提純
        該儀器包含一個(gè)底座和支架裝置，安裝在一個(gè)深水浴槽上。整個(gè)儀器可旋轉(zhuǎn)，因而所有樣品都可從儀器正面獲取。K-D燒瓶坐于一個(gè)覆蓋盤上，盤與濃縮器管子連接，管子浸沒在浴水中?？商幚矸悬c(diǎn)高達(dá)65° C的溶劑。為了zei大化傳熱面積，廣口燒瓶可直接浸沒在水浴中。可處理沸點(diǎn)高達(dá)90° C 的溶劑的真空歧管為可選附件。
        冷凝器水供應(yīng)裝置包含一個(gè)流量計(jì)，供應(yīng)管，旋轉(zhuǎn)入/排水口，平行的供應(yīng)/回收歧管和一個(gè)回收管?？焖贁嚅_裝置用在歧管上。設(shè)備可與實(shí)驗(yàn)臺(tái)上的冷水龍頭連接。推薦將水冷卻裝置作為附件，以加強(qiáng)控制冷凝器溫度和操持水的溫度。
        8.5英寸深的有溫控裝置的不銹鋼水浴在30°-70° C范圍內(nèi)可精確保持恒定水溫。水浴裝有一個(gè)水準(zhǔn)器一個(gè)高溫限制開關(guān)和一個(gè)GFCI（漏電保護(hù)插頭）插頭。還有可選附件：一個(gè)本質(zhì)安全型凈化箱。水浴為UL/CUL認(rèn)證，適合實(shí)驗(yàn)室使用。

S-EVAP-KD特點(diǎn)：
1. 8種型號(hào)：分別為5, 8或10孔位的儀器，燒瓶為250 ml至1000 ml規(guī)格的K-D瓶。
2. 絕緣的濃縮器管延遲蒸干。也可用非絕緣管子。
3. 兩種溶劑收集方法供選擇：?jiǎn)蝹€(gè)燒瓶于每個(gè)冷凝管處收集或通過一個(gè)帶管子和連接裝置的大型的中央燒瓶收集。
4. 玻璃部件易于裝卸。
5. 水歧管使用快速斷開連接裝置，可輕松裝卸冷凝器。

平行溶劑蒸發(fā)儀,S-EVAP-RB/KD

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