Hitachi S—3400N型掃描電子顯微鏡

采用TMP分子泵真空系統(tǒng)，節(jié)省占地面積和電源功耗。

主要用于對材料的微觀形貌、組織和成分進(jìn)行有效分析。

掃描電子顯微鏡

新研制的電子光學(xué)系統(tǒng)和自動化功能顯示系統(tǒng)有全屏顯示，無閃爍，高像素和實(shí)時圖像顯示等優(yōu)異的性能，它還可以實(shí)時信號混合并同時顯示兩個不同的檢測器觀測到的互不相同的樣品信息。

通過高畫質(zhì)提升掃描電鏡的分析能力和操作性，高靈敏度半導(dǎo)體背散射電子檢測器可以在快速掃描模式下運(yùn)行，這使得尋找大尺寸樣品中感興趣的區(qū)域更為簡單和便利。

1）分辨率二次電子探頭：≤3.0 nm（在30kV，高真空模式)，≤10 nm（在3 kV，高真空模式)；

被散射探頭：≤4.0 nm（在30kV，低真空模式)。

2）加速電壓：0.3kV～30kV連續(xù)可調(diào)。

3）放大倍數(shù)：zui低倍率5倍，zui高倍率300,000倍。

4）真空系統(tǒng)① 具有低真空功能，高低真空切換，不需要安裝壓差光闌；② 真空度：高真空不低于0.1 mPa；低真空（壓力范圍）：10 Pa—270 Pa；

5）電子光學(xué)系統(tǒng)① 電子槍：鎢燈絲，具有自動偏壓+4級偏壓功能；② 聚光鏡光闌完全安裝在長內(nèi)襯管內(nèi)，可自行更換聚光鏡光闌。

6）樣品室和樣品臺① 樣品臺尺寸：裝載直徑≥200 mm樣品；② 樣品臺（五軸樣品臺，2軸馬達(dá)驅(qū)動功能）；③  行程：X=100 mm；Y=50 mm；Z=50 mm；R=3600；T=-20～+900；

7）探測器及成像系統(tǒng)① 二次電子探測器：二次電子像；高靈敏5分割背散射電子探測器：成分像、形貌像和三維像；②成像模式：同時得到二次電子像，背散射電子像，兩種圖像混合像；