用于半導體晶圓廠中成分測量的全自動 SIMS

AKONIS SIMS 工具通過直接在半導體生產(chǎn)線中提供對注入分布、成分分析和界面數(shù)據(jù)的高產(chǎn)量、高精度檢測，填補了半導體制造工藝中的重要空白。AKONIS 有非常高的自動化水平，確保了各種工具在晶圓廠工藝控制和工具之間匹配方面的可重復性。

除傳統(tǒng)的通過表征實驗室為半導體行業(yè)提供支持的IMS Wf/SC Ultra和 SIMS 4550（四極桿 SIMS）系列外，AKONIS作為其 補充，可實現(xiàn)儀器設置和采集例程的完全自動化，從而可在分析靈敏度不受影響的情況下實現(xiàn)快速的廠內(nèi)分析。AKONIS 受益于極低沖擊能量（EXLIE）離子色譜柱技術（< 150 eV）的發(fā)展，與帶高分辨率平臺的整片晶圓處理系統(tǒng)相結合，可在最小 20 μm 的壓焊點上進行測量。

推動實現(xiàn) N5 及后繼制程的高產(chǎn)量

SiGe 和 SiP 多層堆疊的高分辨率成分和快速摻雜物深度剖析
無與倫比的最小 20 μm 在壓焊點上的檢測限
將數(shù)據(jù)反饋到生產(chǎn)線的時間縮短了 97% 以上
光片和圖案化的整片晶圓測量
圖案識別引擎與高分辨率干涉測量平臺相結合，可實現(xiàn) < 2 μm 的位置精度
基于獨特材料數(shù)據(jù)庫的直觀recipe創(chuàng)建
SEMI 認證（S2/S8、E4、E5、E39、E84...）
低購置成本