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磁控濺射卷繞鍍膜機信息二維碼

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磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設(shè)備采用先進的磁控濺射鍍膜技術(shù),配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

產(chǎn)品名稱 磁控濺射卷繞鍍膜機
主要參數(shù)
卷膜條件
鍍膜材料:PET 和無紡布
適用制膜:軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
基材厚度:125~300μm
有效鍍膜寬幅:≤800 mm
ZD卷繞直徑:Φ400 mm
卷繞芯軸內(nèi)徑:4 寸
基材卷繞速度:1~2 m/min
基材卷繞張力:30 ~ 200 N
張力系統(tǒng):交流伺服
濺鍍方式:單面
真空條件
極限真空(空載、潔凈):8×10-4Pa
恢復(fù)真空時間(空載、清潔):105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min
系統(tǒng)真空漏率:1.0×10-10 Pa.m3/s
磁控濺射陰極數(shù)量:3 個
膜均勻性偏差:≤±10%
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