等離子體發(fā)射測量

在紫外線…近紅外線范圍可同時觀察到等離子發(fā)射

低壓等離子沉積技術(shù)是一個客觀的連續(xù)不斷的過程，如PVD（物理氣象沉積）是今天真正的問題之一。除了等離子體發(fā)射光的表觀檢查，有時也使用質(zhì)譜技術(shù)。但是質(zhì)譜技術(shù)既不方便操作，其結(jié)果也不容易理解。與此相比，使用OES（發(fā)射光譜）和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點是顯而易見的。

技術(shù)特征

在200…1000nm光譜范圍內(nèi)可同時測量

可檢測非常底的發(fā)射信號

可連接到幾乎每個真空室

無需維護

舒適和易于使用的PEMProVis專業(yè)版軟件

用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進行有機膜厚測試